Sesupa-tsela sa ho Potoloha se koahetsoeng ka TaC

Li-substrate tse potolohang tse koahetsoeng ka TaC tsa Semixlab li entsoe ka ho khetheha ho fihlela litlhoko tsa lits'ebetso tsa epitaxial tsa SiC tsa moloko o latelang. Theknoloji ea rona ea ho koahela ea TaC, e kopantsoeng le moralo o potolohang o leka-lekaneng ka nepo, e fana ka ho tšoana ho ikhethang ha mocheso libakeng tsa CVD tse mocheso o phahameng, e fokotsa tlhahiso ea likaroloana, 'me e netefatsa botsitso ba ts'ebetso ea nako e telele.

Motheong oa moralo ona ho na le sekoahelo se teteaneng, se sa sebetseng sa tantalum carbide se sireletsang substrate ea graphite ho tsoa ho corrosion ea hydrogen, sublimation ea mocheso o phahameng, le liketso tse nang le likhase tsa pele tse nang le silicon kapa carbon. Sebaka sa ho qhibiliha sa TaC se phahameng haholo le conductivity e ikhethang ea mocheso li netefatsa phetiso e tsitsitseng, e ts'oanang ea mocheso nakong ea epitaxy ea 4H-SiC, e tšehetsang mocheso oa kholo o fetang 1600-1700°C. Ka ho boloka tšimo ea mocheso e laoloang nakong ea potoloho ea wafer, substrate ena e netefatsa kabo e ts'oanang ea pele, phallo e ntlafalitsoeng ea laminar, le ho tšoana ho ikhethang ha boemo ba wafer botenya le mahloriso a doping. Sena se bohlokoa bakeng sa meaho ea lisebelisoa tsa motlakase joalo ka drift layers, JBS epitaxial layers, kapa li-stack tse teteaneng tsa epitaxial tsa motlakase o phahameng, moo ho kheloha ho ts'oanang ho amang chai le ts'ebetso ea motlakase haholo.

Karolo e potolohang e koahetsoeng ka TaC e boetse e ntlafalitsoe bakeng sa taolo ea tšilafalo, e leng e 'ngoe ea likarolo tsa bohlokoa ka ho fetisisa ho SiC epitaxy. Bokaholimo ba TaC bo thata haholo bo hanela mapetso a manyane, ho phatloha le ho phatloha esita le ka mor'a ho potoloha nako e telele, bo fokotsa haholo tlhahiso ea likaroloana ka har'a kamore ea epitaxial. Litšobotsi tsa eona tse tsitsitseng tsa lik'hemik'hale li fokotsa ho kenngoa ha litšila tse thehiloeng tšepeng kapa khabone, li boloka bohloeki ba filimi ea epitaxial le ho fokotsa bongata ba sekoli. Melemo ena e atolosa haholo linako tsa tlhokomelo, e eketsa nako ea ho sebetsa ha kamore, le ho eketsa tlhahiso ea lisebelisoa ka kakaretso - haholo-holo libakeng tsa tlhahiso tse ngata moo ho tšepahala le ho pheta-pheta ho amang ka kotloloho litšenyehelo tsohle tsa beng.

Ho ya ka pono ya boenjiniere, moralo wa substrate wa Semixlab o sebedisa tekano e nepahetseng ya jeometri, botenya bo ntlafaditsweng ba ho roala, le mekgwa e tswetseng pele ya kalafo ya bokahodimo ho boloka tshebetso e tsitsitseng ya ho potoloha tlasa dithempereichara tse feteletseng. Sena se ntlafatsa bokgoni ba ho futhumatsa ka induction ha ka nako e ts'oanang se tsitsisa kabo ya mocheso wa wafer maemong a fapaneng a kgolo. Qetellong, re fana ka tharollo e loketseng ya substrate bakeng sa tlhahiso ya bongata bo hodimo le R&D e tswetseng pele, ho netefatsa hore e tsamaellana le di-platform tse etellang pele tsa SiC epitaxial le bokgoni ba ho hola ho ditsamaiso tsa wafer tsa lisenthimithara tse 6 le tse 8.

Li-substrate tse potolohang tse koahetsoeng ke TaC tsa Semixlab qetellong li sebetsa e le sebopeho se tšepahalang haholo sa ts'ebetso, li ntlafatsa boleng ba epitaxial, li ntlafatsa ts'ebetso ea sesebelisoa, le ho tšehetsa lifensetere tse thata tsa ts'ebetso tse hlokahalang bakeng sa tlhahiso ea lisebelisoa tsa motlakase tsa SiC tsa sejoale-joale. E entsoe bakeng sa nako e telele ea bophelo, tšilafalo e tlase ea likaroloana, le ts'ebetso e ikhethang ea mocheso, sehlahisoa sena ke karolo ea motheo bakeng sa masela a batlang liphetho tse tsitsitseng, tse ka boleloang esale pele, le tsa maemo a lefats'e tsa tlhahiso ea SiC epitaxial.